辐射式加热器

加热温度高，加热均匀性好；可连续旋转，适用于大尺寸基片

适用于脉冲激光沉积系统（PLD）、磁控溅射系统（sputtering）、电子束蒸发系统（E-beam evaporation）等。

最高加热温度：1000°C

样品尺寸：最大8英寸

加热稳定性：±1°C

升温速率：10°C/min