产品综述:LH-Series激光加热系列脉冲激光沉积系统是一款多功能的物理气相沉积设备,可以通过不同的配置实现不同的需求,圆柱形腔体设计。
	主要特点:实现一键RUN自动化流程运行,激光加热,实时监控,晶振监控仪,监控镀膜速率,摄像头实时监控辉羽状态。设备稳定,实验重复性高。
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					 LH-Series  | 
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					 真空腔体  | 
				
					 
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					 材质  | 
				
					 电解抛光304不锈钢  | 
			
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					 腔体形状  | 
				
					 圆柱形  | 
			
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					 本底真空度  | 
				
					 5 x10-9 mbar(可选)  | 
			
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					 工艺气体  | 
				
					 O2,Ar,N2(其它可选)  | 
			
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					 激光加热台  | 
				
					 
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					 最大wafer尺寸  | 
				
					 10*10 mm2  | 
			
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					 最高加热温度  | 
				
					 1100℃  | 
			
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					 移动自由度  | 
				
					 X Y Z Phi tilt  | 
			
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					 挡板  | 
				
					 自动  | 
			
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					 红外测温  | 
				
					 测温范围150℃-1600℃  | 
			
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					 靶台  | 
				
					 
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					 移动自由度  | 
				
					 公转,自转,摆动,Z方向  | 
			
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					 靶材个数  | 
				
					 ≤6  | 
			
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					 靶材尺寸  | 
				
					 1”,2”(可选)  | 
			
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					 传送方式  | 
				
					 单个靶材传送  | 
			
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					 进样室  | 
				
					 
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					 本底真空度  | 
				
					 <10-6 mbar  | 
			
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					 真空泵  | 
				
					 机械泵+分子泵  | 
			
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					 RHEED  | 
				
					 
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					 电子枪能量  | 
				
					 50 KeV  | 
			
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					 工作气压  | 
				
					 0.5 mbar  | 
			
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					 真空获取  | 
				
					 两级差分抽气功能  | 
			
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					 控制软件  | 
				
					 
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					 控制系统  | 
				
					 PLC,工控机  | 
			
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					 电脑界面软件  | 
				
					 Labview  | 
			
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					 温控系统  | 
				
					 PID  | 
			
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					 安全保护  | 
				
					 急停按钮、过载保护以及漏电保护  | 
			
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					 其他  | 
				
					 程序智能控制,自动参数记录  | 
			
	
摄像头和掩膜板系统都可选,同时可根据用户需求定制。用来沉积多晶薄膜、外延薄膜、多层异质结构和超晶格结构的薄膜。
	


