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B Series

发布时间:2019-09-11

产品综述:基础版(B)系列脉冲激光沉积系统是一款多功能的物理气相沉积设备,可以通过不同的配置实现不同的需求,球形腔体设计。

主要特点:实现一键RUN自动化流程运行,设备稳定,实验重复性高。

Basic-Series

真空腔体

材质

电解抛光304不锈钢

腔体形状

球形

本底真空度

<2x10-7 mbar

工艺气体

O2,Ar,N2(其它可选)

加热台

最大wafer尺寸

1 inch

最高加热温度

900℃

移动自由度

Z Phi ,tilt

挡板

手动

靶台

移动自由度

公转,自转,摆动

靶材个数

≤6

靶材尺寸

1”,2”(可选)

控制软件

控制系统

PLC,工控机

电脑界面软件

Labview

温控系统

PID

安全保护

急停按钮、过载保护以及漏电保护

其他

程序智能控制,自动参数记录

进样室,激光扫描系统,石英晶振监控仪,RHEED, Mask ,激光加热都可选,同时可根据用户需求定制。用来沉积多晶薄膜、外延薄膜、多层异质结构和超晶格结构的薄膜。



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