产品综述：基础版（B）系列脉冲激光沉积系统是一款多功能的物理气相沉积设备，可以通过不同的配置实现不同的需求，球形腔体设计。
主要特点：实现一键RUN自动化流程运行，设备稳定，实验重复性高。
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Basic-Series |
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真空腔体 |
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材质 |
电解抛光304不锈钢 |
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腔体形状 |
球形 |
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本底真空度 |
<2x10-7 mbar |
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工艺气体 |
O2，Ar，N2(其它可选) |
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加热台 |
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最大wafer尺寸 |
1 inch |
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最高加热温度 |
900℃ |
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移动自由度 |
Z， Phi ，tilt |
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挡板 |
手动 |
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靶台 |
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移动自由度 |
公转，自转，摆动 |
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靶材个数 |
≤6 |
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靶材尺寸 |
1”,2”（可选） |
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控制软件 |
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控制系统 |
PLC，工控机 |
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电脑界面软件 |
Labview |
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温控系统 |
PID |
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安全保护 |
急停按钮、过载保护以及漏电保护 |
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其他 |
程序智能控制，自动参数记录 |
进样室，激光扫描系统，石英晶振监控仪，RHEED, Mask ，激光加热都可选，同时可根据用户需求定制。用来沉积多晶薄膜、外延薄膜、多层异质结构和超晶格结构的薄膜。
