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L Series

发布时间:2019-09-11

产品综述:升级版(L)系列 脉冲激光沉积系统是一款多功能的高通量物理气相沉积设备,可以通过不同的配置实现不同的需求,圆柱形腔体设计,可以选择性的制备1-100个不同的样品。

主要特点:实现一键RUN自动化流程运行,实时监控, RHEED 原位分析与监控;晶振监控仪,监控镀膜速率,设备稳定,实验重复性高。

L Series

真空腔体

材质

电解抛光304不锈钢

腔体形状

圆柱形

本底真空度

<10-7 mbar, <10-8 mbar(可选)

工艺气体

O2ArN2 (其它可选)

加热台

最大wafer尺寸

115*115 mm2

最高加热温度

900

移动自由度

X Y Z Phi tilt

挡板

自动

固定模式

可插拔式设计,整个加热器可通过磁力传样杆进行取放

靶台

移动自由度

公转,自转,摆动,Z方向

靶材个数

≤6

靶材尺寸

1”,2”(可选)

传送方式

单个靶材传送

进样室

本底真空度

<10-6 mbar

真空泵

机械泵+分子泵

RHEED

电子枪能量

50 KeV

工作压力

0.5 mbar

真空系统

二级差分抽气

控制软件

控制系统

PLC,工控机

电脑界面软件

Labview

温控系统

PID

安全保护

急停按钮、过载保护以及漏电保护

其他

程序智能控制,自动参数记录

激光扫描系统,Mask ,激光加热都可选,可选摄像头实时监控辉羽状态, 同时可根据用户需求定制。用来沉积多晶薄膜、外延薄膜、多层异质结构和超晶格结构的薄膜。


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