产品综述:升级版(L)系列 脉冲激光沉积系统是一款多功能的高通量物理气相沉积设备,可以通过不同的配置实现不同的需求,圆柱形腔体设计,可以选择性的制备1-100个不同的样品。
主要特点:实现一键RUN自动化流程运行,实时监控, RHEED 原位分析与监控;晶振监控仪,监控镀膜速率,设备稳定,实验重复性高。
L Series |
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真空腔体 |
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材质 |
电解抛光304不锈钢 |
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腔体形状 |
圆柱形 |
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本底真空度 |
<10-7 mbar, <10-8 mbar(可选) |
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工艺气体 |
O2,Ar,N2 (其它可选) |
加热台 |
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最大wafer尺寸 |
115*115 mm2 |
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最高加热温度 |
900 ℃ |
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移动自由度 |
X Y Z Phi tilt |
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挡板 |
自动 |
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固定模式 |
可插拔式设计,整个加热器可通过磁力传样杆进行取放 |
靶台 |
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移动自由度 |
公转,自转,摆动,Z方向 |
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靶材个数 |
≤6 |
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靶材尺寸 |
1”,2”(可选) |
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传送方式 |
单个靶材传送 |
进样室 |
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本底真空度 |
<10-6 mbar |
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真空泵 |
机械泵+分子泵 |
RHEED |
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电子枪能量 |
50 KeV |
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工作压力 |
0.5 mbar |
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真空系统 |
二级差分抽气 |
控制软件 |
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控制系统 |
PLC,工控机 |
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电脑界面软件 |
Labview |
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温控系统 |
PID |
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安全保护 |
急停按钮、过载保护以及漏电保护 |
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其他 |
程序智能控制,自动参数记录 |