产品综述:标准版(M) 系列脉冲激光沉积系统是一款多功能的高通量物理气相沉积设备,可以通过不同的配置实现不同的需求,圆柱形腔体设计,可以选择性的制备1-100个不同的样品。
主要特点:实现一键RUN自动化流程运行,实时监控;晶振监控仪,监控镀膜速率,设备稳定,实验重复性高。
M Series |
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真空腔体 |
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材质 |
电解抛光304不锈钢 |
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腔体形状 |
圆柱形 |
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本底真空度 |
<5x10-9 mbar |
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工艺气体 |
O2,Ar,N2 (其它可选) |
加热台 |
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最大wafer尺寸 |
2 inch |
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最高加热温度 |
1000℃ |
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移动自由度 |
X Y Z Phi tilt |
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挡板 |
自动 |
靶台 |
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移动自由度 |
公转,自转,摆动 |
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靶材个数 |
≤6 |
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靶材尺寸 |
1”,2”(可选) |
控制软件 |
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控制系统 |
PLC,工控机 |
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电脑界面软件 |
Labview |
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温控系统 |
PID |
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安全保护 |
急停按钮、过载保护以及漏电保护 |
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其他 |
程序智能控制,自动参数记录 |
进样室,激光扫描系统,RHEED,Mask ,激光加热都可选,同时可根据用户需求定制。用来沉积多晶薄膜、外延薄膜、多层异质结构和超晶格结构的薄膜。