电子束蒸发

• 原理：

  
  

  在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料，使蒸发材料气化并向基板输运，在基底上凝结形成薄膜的方法。在高真空下，电子枪灯丝加热后发射热电子，被加速阳极加速，获得很大的动能轰击到的蒸发材料上，把动能转化成热使蒸发材料加热气化，而实现电子束蒸发镀膜。电子束蒸发源由发射电子的热阴极、电子加速极和作为阳极的镀膜材料组成。电子束蒸发源的能量可高度集中，使镀膜材料局部达到高温而蒸发。通过调节电子束的功率，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率，特别是有利于高熔点以及高纯金属和化合物材料。

• 优点：

  （1）镀膜机中的电子束加热的方法与传统的电阻加热的方法相比较，电子束加热会产生更高的通量密度，对于高熔点的材料的蒸发比较有利，而且还可以使得蒸发的速率得到一定程度上的提高；

  （2）蒸发镀膜机在工作的时候会将需要被蒸发的原材料放入到水冷铜坩埚内，这样就可以保证避免材料被污染，从而制造纯度较高的薄膜；

  （3）电子束蒸发的粒子动能比较的大，有利于薄膜的精密性和结合力。

• 典型应用：

  
  

  金属（Al、Nb、Ge等）、电介质、氧化物（Ta₂O₅、Al₂O₃等）。制备高熔点材料薄膜和高纯薄膜。